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MPCVD

MPCVD

应用于热沉芯片、第四代高功率半导体、珠宝制造等领域
批次等离子体ALD

批次等离子体ALD

PBATCH

广泛应用于先进光学薄膜（AR）、第三代半导体、集成电路制造等领域
碳化硅外延CVD系统

碳化硅外延CVD系统

SICE-Y6

应用于导电型SiC功率器件：电动汽车/充电桩、光伏新能源、轨道交通等
新型多片批次型ALD

新型多片批次型ALD

CBATCH 100S

应用于Mini/Micro OLED/LED、激光器件、功率器件、MEMS等
新型多片批次型ALD

新型多片批次型ALD

CBATCH 300S

应用于Mini/Micro OLED/LED、激光器件、功率器件、MEMS等
生产型粉末ALD

生产型粉末ALD

KG

广泛应用于锂电池、催化剂、金属及陶瓷粉末、药物、纳米材料等
全自动四腔超高真空双倾角镀膜系统

全自动四腔超高真空双倾角镀膜系统

QBT-J

双腔室超高真空双倾角蒸镀系统

双腔室超高真空双倾角蒸镀系统

QBT-E

双腔室超高真空磁控溅射系统

双腔室超高真空磁控溅射系统

QBT-P

三腔室超高真空磁控溅射系统

三腔室超高真空磁控溅射系统

QBT-MP

桌式ALD系统

桌式ALD系统

MINI

广泛应用于半导体、纳米催化剂、光学薄膜制备、航空航天、钙钵矿太阳能电池等
双腔室高真空等离子体ALD系统

双腔室高真空等离子体ALD系统

QBT-A

双腔室高真空高速蒸镀系统

双腔室高真空高速蒸镀系统

QBT-I

研发型粉末ALD

研发型粉末ALD

GM

应用于锂电池、催化剂、量子点、金属及陶瓷粉末、药物、纳米材料等
双腔室等离子体硅片及粉末ALD系统

双腔室等离子体硅片及粉末ALD系统

QBT-T

微纳加工，粉末或极片包覆。
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创新型高端纳米装备制造技术企业，专为泛半导体及新能源提供高端装备及服务。

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