so
产品中心
为客户提供先进的纳米材料制造装备及服务

首页 /  产品中心  /  产品详情

产品分类

产品详情

浏览量:
1000

HT 生产型粉末CVD

主要用于锂电池负极材料的硅烷沉积/碳包覆。
零售价
0.0
市场价
0.0
浏览量:
1000
产品编号
所属分类
粉末ALD/CVD
数量
-
+
库存:
0
产品描述
测试结果
代表论文

HT系列设备采用气相沉积硅碳技术,主要用于锂电池负极材料的硅烷沉积/碳包覆。

 

产品优势:

·SEMI半导体级别安全管控;

·在真空环境下进行硅烷沉积/碳包覆,可实现高沉积均匀性与高包覆完整性;

·有效装料容积达100-200L,大幅度提高产能,有效降低生产成本;

·优异的批次稳定性与重复性。

生产型粉末CVD
未找到相应参数组,请于后台属性模板中添加
下一个

留言反馈

WRITE A MESSAGE TO US

留言应用名称:
客户留言
描述:
验证码

产品推荐

全自动四腔超高真空双倾角镀膜系统

全自动四腔超高真空双倾角镀膜系统

QBT-J

QBT-J 采用线性级联技术,集成了进样/预处理、离子铣、蒸发以及氧化四个腔室。整套系统全自动运行,操作简单,易于维护,并且采用抓取传送方式,减少了颗粒物的产生。基于QBT-J系列,客户可研发出高质量的超导器件,在诸多领域有广泛的应用前景。
双腔室超高真空双倾角蒸镀系统

双腔室超高真空双倾角蒸镀系统

QBT-E

双腔室超高真空磁控溅射系统

双腔室超高真空磁控溅射系统

QBT-P

QBT-P 设备具备超高真空背景环境,全自动操作,可实现高质量薄膜沉积,目前韫茂QBT-P磁控溅射系列可生长出高质量α相钽膜,在高温和常温下都可以得到高质量的钽膜,钽膜的Tc超过4.25 K,并且剩余电阻比大于6。 用韫茂QBT-P 系列制备的Ta可实现低损耗的超导电路制备,单光子品质因数超过100万,且对应的量子比特相干时间超过250μs
上一页
1
厦门韫茂科技有限公司

创新型高端纳米装备制造技术企业,专为泛半导体及新能源提供高端装备及服务。

厦门韫茂科技有限公司

扫码关注公众号

联系我们

地址

厦门市集美区集美北大道安仁产业园

客服热线
13606910856 13606910856
服务时间:
8:00 - 18:00
客服组:
在线客服