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批次等离子体ALD

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PBATCH

广泛应用于先进光学薄膜（AR）、第三代半导体、集成电路制造等领域
批次热ALD

批次热ALD

CBATCH 300S

应用于Mini/Micro OLED/LED、激光器件、功率器件、MEMS等
批次热ALD

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应用于Mini/Micro OLED/LED、激光器件、功率器件、MEMS等
金刚石CVD

金刚石CVD

MPCVD

应用于热沉芯片、第四代高功率半导体、珠宝制造等领域
碳化硅外延CVD

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SICE-Y6/8

应用于导电型SiC功率器件：电动汽车/充电桩、光伏新能源、轨道交通等
生产型粉末ALD

生产型粉末ALD

KG

广泛应用于锂电池、催化剂、金属及陶瓷粉末、药物、纳米材料等
生产型粉末CVD

生产型粉末CVD

HT

主要用于锂电池负极材料的硅烷沉积/碳包覆。
科研桌式ALD

科研桌式ALD

MINI

广泛应用于半导体、纳米催化剂、光学薄膜制备、航空航天、钙钵矿太阳能电池等
双腔室高真空等离子体ALD

双腔室高真空等离子体ALD

QBT-A

双腔室等离子体硅片及粉末ALD

双腔室等离子体硅片及粉末ALD

QBT-T

微纳加工，粉末或极片包覆。
双腔室超高真空磁控溅射系统

双腔室超高真空磁控溅射系统

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双腔室超高真空双倾角蒸镀系统

双腔室超高真空双倾角蒸镀系统

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全自动四腔超高真空双倾角镀膜系统

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研发型粉末ALD

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应用于锂电池、催化剂、量子点、金属及陶瓷粉末、药物、纳米材料等
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