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双腔室超高真空磁控溅射系统

双腔室超高真空磁控溅射系统

QBT-P

QBT-P 设备具备超高真空背景环境,全自动操作,可实现高质量薄膜沉积,目前韫茂QBT-P磁控溅射系列可生长出高质量α相钽膜,在高温和常温下都可以得到高质量的钽膜,钽膜的Tc超过4.25 K,并且剩余电阻比大于6。 用韫茂QBT-P 系列制备的Ta可实现低损耗的超导电路制备,单光子品质因数超过100万,且对应的量子比特相干时间超过250μs
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