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MINI 桌式ALD系统
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Single Wafer ALD
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MINI是一款尺寸超小、操作简单、功能强大的桌面式原子层沉积系统，它可以在4寸晶元和微纳米粉体上实现均匀可控的原子层沉积，具有广泛的应用领域。
该系统具有专利粉未样品桶晶元载盘，全自动温控制、ALD前驱体源钢瓶、自动温度控制阀、工业级安全控制，是先进能源材料、新型纳米材料研究与应用的最佳研发工具。
产品优势：
•小巧、安静、便捷；
•4组快拆式前驱体；
•全自动人机操作界面；
•抽屉式装载，人机交互简单便捷。
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双腔室高真空等离子体ALD系统
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