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CBATCH 300S 新型多片批次型ALD

应用于Mini/Micro OLED/LED、激光器件、功率器件、MEMS等
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半导体领域
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多片批次式ALD,能够实现全自动、多片、连续化生产,有效提高产能,降低COO

并且多片批次式ALD能够实现原子级别的精确控制,ALD沉积薄膜无针孔,质量高,可作为高K值介质层,金属层,封装层,电镀种子层及其他功能层应用,广泛应用于Mini/Micro LED, 第三代半导体,以及集成电路制造等领域。

 

产品优势:

 

3D膜实现原子级别精确控制
高度精度、高重复性全自动上下料传输
全自动、多片、连续化生产,有效提高产能,降低COO
实现超高深宽比(1000:1)结构的镀膜,ALD沉积薄膜无针孔,质量高
  
新型多片批次型ALD
新型多片批次型ALD
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Mini/Micro LED/0LED的ALD的钝化

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