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产品描述
测试结果
代表论文
MPCVD 可实现高质量金刚石单晶、多晶薄膜生长，用于核心的第四代宽禁带半导体器件制造。
MPCVD沉积速率低，限制了生产效率，大面积、高均匀性MPCVD可大幅提高产能，降低客户使用成本。
产品优势：
•能够实现全自动、自动化生产；
•创新的设计带来产品良率大幅提升；
•创新的高均匀性、偏压设计能够实现更高的金刚石薄膜质量；
•工业标准安全互锁、报警、EMO。
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