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Evaporator

粉末ALD

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MPCVD 金刚石CVD

应用于热沉芯片、第四代高功率半导体、珠宝制造等领域

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工业型设备

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产品描述

测试结果

代表论文

MPCVD 可实现高质量金刚石单晶、多晶薄膜生长，用于核心的第四代宽禁带半导体器件制造。

MPCVD沉积速率低，限制了生产效率，大面积、高均匀性MPCVD可大幅提高产能，降低客户使用成本。

产品优势：

•能够实现全自动、自动化生产；

•创新的设计带来产品良率大幅提升；

•创新的高均匀性、偏压设计能够实现更高的金刚石薄膜质量；

•工业标准安全互锁、报警、EMO。

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批次热ALD

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碳化硅外延CVD

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