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PBATCH 批次等离子体ALD

广泛应用于先进光学薄膜(AR)、第三代半导体、集成电路制造等领域
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产品编号
所属分类
半导体领域
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产品描述
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客户文章

PBATCH实现低温高质量PEALD工艺,可应用在高分子材料衬底等温度敏感的衬底,制备氧化物,氮化物,金属层等应用。而ALD沉积速率低,限制了生产效率,批次性ALD可大幅提高ALD产能,降低客户使用成本

产品优势:

最大样品尺寸12寸;
全自动、多片、大批量生产;
可在同一工艺腔室内实现等离子体清洗,及SiO2Al2O3TiO2不同薄膜的任意组合交替沉积;
可在整个镜片的外表面及3D 结构上进行保形沉积;
3D膜实现原子级别的精确控制;
工业标准安全互锁、报警、EMO。

 

批次等离子体ALD
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