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YUNMAO
韫茂科技 | 新一代光学ALD设备导入头部光波导企业
2026-07-20
韫茂科技
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韫茂全自动等离子体ALD设备，可实现8/12寸晶圆兼容，成功导入头部光波导企业产线。
全自动等离子体ALD
应用于先进光学薄膜制造领域
● 全自动、多片、大批量生产，产能业界领先
● 可在整个镜片的外表面及3D微纳结构上进行保形沉积
● 可在同一工艺腔室内实现等离子体清洗，及不同薄膜的任意组合交替沉积
● 可沉积可见光范内反射率R<0.05%的光学薄膜
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