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多阴极共聚焦溅射系列 相关产品
QBT-MPC 2000 双腔室多靶枪共聚焦超高真空磁控溅射镀膜系统
主要用于高质量低微波损耗超导薄膜的生长，助力高性能超导量子芯片的研发，同时可用于超薄多层合金的磁性薄膜生长和高质量磁性隧道结的制备。该产品所用小型靶材系列可帮助科研工作者在柔性衬底上生长高质量的ITO薄膜生长或者产业LED芯片制造过程中的光学薄膜生长。
QBT-MPC 双腔室多靶枪共聚焦超高真空磁控溅射系统
QBT-MPC 包含两个超高真空腔体, 进样腔和磁控溅射腔，配备全自动化人机操作界面。该系统配备了多个溅射靶枪，并且可进行原位倾斜，用于共聚焦溅射工艺。QBT-MPC 是最先进的溅射系统，可以用于多个材料领域，例如自旋电子器件、拓扑材料、相变材料、超导材料等。
