KG 工业级粉末ALD
产品概况
能够在微米级粉末表面包覆原子层级到纳米层级范围内的厚度，具有超高灵敏度、均一性和重复性；全自动原位厚度测试系统，实时观测生长速率及厚度功能，系统具有较高整体性和稳定性，并具有较高的自动化程度，操作方便、扩展灵活。
技术优势
样品最大产载量: 500kg
均匀性、批次稳定性1σ＜3%
可配置3-5路前驱体源，镀膜种类多样化
多阀组设计，实现最佳前驱体输送控制，保证可重复性和易于维护
立式提料分散，配合特殊进气方案，保证粉体与前驱体充分接触，有效提高包覆均匀性
专利设计的高温真空旋转密封装置，实现粉体分散工况下的真空密封功能，确保工艺稳定性
应用领域
FAQ
韫茂科技的粉末ALD包括哪些产品
韫茂粉末ALD设备包括工业型及科研型两大分类，KG属于工业型设备，主要用于工厂量产，系列产品为KG10、KG20、KG40、KG100
用ALD包覆与传统的溶液法等相比有什么优势
ALD 通过原子级精准控制、强界面结合、温和工艺和复杂结构适应性，解决了传统溶液法和固相法在包覆过程中的均匀性差、厚度不可控、基底损伤等核心问题
KG系列的粉末处理量最大是多少
KG10、KG20、KG40、KG100最大处理量为10kg、20kg、40kg、100kg，且以上设备均已实现批量性出货
KG的应用领域主要有哪些
锂电领域：用于提升电池性能，改善电极材料性能；催化领域：制备高效催化剂，优化催化剂性能；金属粉末处理领域：改善粉末流动性，提高防潮 / 抗氧化性，改善烧结界面；新材料开发领域：纳米材料表面修饰，制备新型薄膜材料；制药领域：改善粉末性能，实现药剂缓释
