PBATCH-A300 批次等离子体ALD（EFEM）
产品概况
PBATCH-A300 可实现低温高质量PEALD工艺，可在温度敏感的衬底上，沉积SiO2、Al2O3、TiO2等高质量的光学薄膜。亦可在玻璃、硅片、陶瓷、有机材料、高分子材料、金属等材质的基底沉积多种类型的ALD薄膜。
技术优势
可兼容12英寸和8英寸晶圆
可选配EFEM模块，全自动化生产
可同时兼容热式ALD及等离子体增强ALD工艺
全自动、多片、大批量生产，产能业界领先
PBATCH-A300 批次等离子体ALD（EFEM）
产品概况
PBATCH-A300 可实现低温高质量PEALD工艺，可在温度敏感的衬底上，沉积SiO2、Al2O3、TiO2等高质量的光学薄膜。亦可在玻璃、硅片、陶瓷、有机材料、高分子材料、金属等材质的基底沉积多种类型的ALD薄膜。
技术优势
可兼容12英寸和8英寸晶圆
可选配EFEM模块，全自动化生产
可同时兼容热式ALD及等离子体增强ALD工艺
全自动、多片、大批量生产，产能业界领先
