PBATCH-A300 批次等离子体ALD（EFEM可选）
产品概况
可实现低温高质量PEALD工艺，可在温度敏感的衬底上，沉积SiO2、Al2O3、TiO2等高质量的光学薄膜。亦可在玻璃、硅片、陶瓷、有机材料、高分子材料、金属等材质的基底沉积多种类型的ALD薄膜。可同时兼容热式ALD及等离子体增强ALD工艺。批次性大产能结构设计，大幅提高ALD产能，降低客户使用成本。单位时间内的处理量超越传统PVD镀膜设备。
技术优势
提供自动化EFEM上下料方案（兼容8/12英寸晶圆）
全自动、多片、大批量生产，产能业界领先
可同时兼容热式ALD及等离子体增强ALD工艺
可在同一工艺腔室内实现等离子体清洗，及SiO2、Al2O3、TiO2不同薄膜的任意组合交替沉积
可在整个镜片的外表面及3D 微纳结构上进行保形沉积
