PBATCH-350S 批次等离子体ALD
产品概况
PBATCH可实现低温高质量PEALD工艺，兼容热式ALD及等离子体增强ALD工艺，极佳的镀膜均匀性，实现原子级别的精确控制，批次性大产能结构设计，大幅提高ALD产能，降低客户使用成本。单位时间内的处理量超越传统PVD镀膜设备。
技术优势
可见光范围内反射率R<0.05%
镀膜均匀性、重复性及可靠性业界领先
最大样品尺寸12寸,实现全自动、多片、大批量生产
可在整个镜片的外表面及3D微纳结构上进行保形沉积
批次性多腔结构设计大幅提高产能，显著降低ALD技术的使用成本
可在同一工艺腔室内实现等离子体清洗，及SiO2、Al2O3、TiO2不同薄膜的任意组合交替沉积
应用领域
FAQ
PBATCH主要应用在什么领域?
应用与光学模组、镜头、传统COB、先进封装等
PBATCH可以做AR膜层吗?
可以。极致AR膜层全反射率，可见光波段内，反射率<0.1%
