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PBATCH-350S 批次等离子体ALD
PBATCH可实现低温高质量PEALD工艺，兼容热式ALD及等离子体增强ALD工艺，极佳的镀膜均匀性，实现原子级别的精确控制，批次性大产能结构设计，大幅提高ALD产能，降低客户使用成本。单位时间内的处理量超越传统PVD镀膜设备。
PBATCH-A300 批次等离子体ALD（EFEM）
PBATCH-A300 可实现低温高质量PEALD工艺，可在温度敏感的衬底上，沉积SiO2、Al2O3、TiO2等高质量的光学薄膜。亦可在玻璃、硅片、陶瓷、有机材料、高分子材料、金属等材质的基底沉积多种类型的ALD薄膜。
Multi PBATCH 批次等离子体ALD（EFEM可选）
Multi Pbatch设备可在极宽的温度窗口(50℃-300℃)内，实现高质量的等离子体增强原子层薄膜沉积工艺，并兼容纯热式原子层薄膜沉积工艺。可在4、6、8、12英寸硅晶圆、化合物晶圆、玻璃晶圆、玻璃镜片、有机高分子镜片、金属或陶瓷等材质的基底沉积高质量的薄膜。该设备具有极优的镀膜均匀性、重复性及可靠性，同时兼顾优异的产能、良率及成本控制。
