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韫茂碳化硅外延 CVD 设备、金刚石 MPCVD 设备、PECVD,分别服务于第三代、第四代以及硅基集成电路半导体市场,依托自主研发的 20 余项核心专利技术,公司在关键工艺模块创新、反应腔体流场设计、原位监测系统等领域形成技术壁垒,在高频、功率器件、MEMS、内存芯片领域展现出色的性能和稳定性,推动了新一代半导体材料和器件的研发和应用。随着全球半导体产业向宽禁带材料转型,韫茂持续深化与头部客户的战略合作,通过定制化设备解决方案加速新一代半导体材料及器件的产业化进程。

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