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CBATCH 100X 批次热ALD(单腔)

韫茂科技产品概况

CBATCH-100X 是用于4/6 inch LED 生产线的原沉积系统,该系统主要由工艺腔、运动控制系统和上下料平台组成,满足于图形化和平面蓝宝石衬底微纳器件氧化层封装镀膜的需求。其中工艺模块用于为基片进行工艺提供环境。

韫茂科技技术优势

架构设计专利,有效提高产能,降低COO

可扩展模块设计,产能、腔体增加同时保证镀膜质量

独特气流设计,多片镀膜WIW均匀性 NU<1.0% , W2W<1.5% , B2B<1.5%

独特的尾气排放处理,延长真空泵维护周期,节省成本

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产品分类

应用领域

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功率器件MEMS

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Mini/Micro OLED/LED激光器件

FAQ

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CBATCH的控温均匀性如何?

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工艺腔采用内、外腔设计,具有出色的温控均匀性

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CBATCH的对颗粒度的控制如何?

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腔体内部采用高真空传输,极致Particle表现,实现高洁净度生产

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CBATCH的主要有哪些领域的工艺应用?

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mini LED背光钝化、RGB红黄提亮及钝化、高功率GaN LED钝化、Vcsel钝化、Micro LED显示侧壁钝化等

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CBATCH的做出的膜层相较其他竞品有什么优势?

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1、提高器件双85良品率; 2、降低器件反向漏电; 3、超大产能有效降低COO; 4、多腔体设计可保证更高的洁净度,适合Micro LED及微显示、车载等高端产品量产等

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PBATCH-350S 批次等离子体ALD
PBATCH-A300 批次等离子体ALD(EFEM)
Multi PBATCH 批次等离子体ALD(EFEM可选)
CBATCH 100X 批次热ALD(单腔)
CBATCH 300X 批次热ALD(多腔)
QBT-A 300 CLUSTER 8/12英寸 ALD 集群系统
MPCVD 金刚石微波等离子体CVD
SICE-Y8 工业型碳化硅外延CVD
KG 工业型粉末ALD
SCA 工业型硅碳负极流化床CVD
QBT-J 300 Cluster 8/12英寸双倾角集群系统
QBT-P300 Cluster 8/12英寸磁控溅射集群系统
QBT-A 单面高真空等离子体ALD
TEM 桌面式ALD
QBT-ADS 双面高真空等离子体ALD设备
PVD100 双腔室高真空磁控溅射系统
QBT-P 双腔室超高真空磁控溅射系统
QBT-PL3 三腔室超高真空磁控溅射系统
QBT-MPV 双腔室多靶枪公转超高真空磁控溅射系统
QBT-MPC 双腔室多靶枪共聚焦超高真空磁控溅射系统
QBT-MPC 2000 双腔室多靶枪共聚焦超高真空磁控溅射镀膜系统
QBT-OAS 离轴磁控溅射系统
QBT-IBS 超高真空离子束溅射系统
QBT-MPL3 三腔室多靶枪共聚焦超高真空磁控溅射系统
QBT-MPL4 四腔室多靶枪共聚焦超高真空磁控溅射系统
QBT-J 四腔室双倾角超高真空镀膜系统
QBT-J Compact 紧凑型双腔室双倾角超高真空镀膜系统
QBT-E 双腔室超高真空电子束蒸发镀膜系统
QBT-I 双腔室高速铟蒸发超高真空镀膜系统
QBT-I 双腔室高速热蒸发镀铟系统
GM 研发型粉末ALD
QBT-C200 等离子体增强PECVD
QBT-T 双腔室等离子体硅片及粉末ALD

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