CBATCH 100s 批次热ALD
产品概况
4/6 inch LED 生产线的原子层沉积系统，面向图形化和平面蓝宝石衬底微纳器件氧化层封装镀膜的需要。
技术优势
专利的架构设计，有效提高产能，降低COO
可扩展模块设计，产能、腔体增加同时保证镀膜质量
独特气流设计，多片镀膜保持良好的WIW均匀性 NU<1.5%,W2W<2.5%,B2B<2.5%，前驱体消耗量更少
应用领域
FAQ
CBATCH的控温均匀性如何?
工艺腔采用内、外腔设计，具有出色的温控均匀性
CBATCH的对颗粒度的控制如何?
腔体内部采用高真空传输，极致Particle表现，实现高洁净度生产
CBATCH的主要有哪些领域的工艺应用?
mini LED背光钝化、RGB红黄提亮及钝化、高功率GaN LED钝化、Vcsel钝化、Micro LED显示侧壁钝化等
CBATCH的做出的膜层相较其他竞品有什么优势?
1、提高器件双85良品率； 2、降低器件反向漏电； 3、超大产能有效降低COO； 4、多腔体设计可保证更高的洁净度，适合Micro LED及微显示、车载等高端产品量产等
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