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Single Wafer ALD 相关产品
QBT-ADS 双腔高真空双面镀膜PEALD设备
QBT-A 双腔室高真空等离子体ALD
高真空等离子体增强原子层沉积系统QBT-A，是国内首家适用于高端研发及生产制造的HV-PEALD。QBT-A主要应用于高质量ALD薄膜沉积制备（氧化物、氮化物、金属单质），高真空设计降低系统泄露率，配备无氧陶瓷等离子发生器、气体钝化器、4路双管源瓶。它能够实现超低射频电路损耗、高深宽比TSV 填充、超低氧含量。
MINI 科研型桌式ALD
MINI是一款尺寸超小、操作简单、功能强大的桌面式ALD系统，它可以在4寸晶圆和微纳米粉体上实现均匀可控的原子层沉积，是先进能源材料、新型纳米材料研究与应用的最佳研发工具。
