韫茂科技 韫茂科技 韫茂科技
EN
韫茂科技 韫茂科技 韫茂科技
韫茂科技 韫茂科技 韫茂科技
韫茂科技 韫茂科技 首页 > 产品 > 研发型设备 > Evaporator > QBT-I 双腔室高速超高真空镀膜系统

QBT-I 双腔室高速超高真空镀膜系统

韫茂科技产品概况

QBT-I 是一款用于高速蒸镀铟柱的电子束蒸发系统。由于铟熔点较低，需要在低温下沉积，因此该系统配备深冷，可将样品冷却至-70℃，以此保证铟柱表面的光滑，并且配备快速晶振更换模块，可实现铟的连续沉积。此系统为倒装芯片工艺和 3D 堆叠芯片技术提供了解决方案。

韫茂科技技术参数

进样腔极限真空：5E-9 Torr

蒸发室极限真空：3E-9 Torr

镀膜均匀性：150mm 厚1um 去边5mm RU<±5%

样品尺寸：最多兼容6英寸晶圆，并向下兼容

韫茂科技
韫茂科技

产品分类

工业型设备

ALD

韫茂科技 韫茂科技

Plasma Batch ALD

韫茂科技 韫茂科技
PBATCH 批次等离子体ALD PBATCH-A300 批次等离子体ALD（EFEM可选） Multi Pbatch 批次等离子体ALD

Thermal Batch ALD

韫茂科技 韫茂科技
CBATCH 100s 批次热ALD CBATCH 300s 批次热ALD

12 inch ALD

韫茂科技 韫茂科技
QBT-A 300 CLUSTER 高真空等离子体 ALD 集群系统

CVD

韫茂科技 韫茂科技

MPCVD 金刚石CVD

Epitaxy

韫茂科技 韫茂科技

SICE-Y8 碳化硅外延CVD系统

Powder ALD/CVD

韫茂科技 韫茂科技

KG 工业级粉末ALD

SCA 工业级粉末CVD

PVD

韫茂科技 韫茂科技

QBT-J 300 超高真空互联多腔体互联约瑟夫森结制造系统

QBT-P300 Cluster 超高真空磁控溅射集群系统

研发型设备

ALD

韫茂科技 韫茂科技

Single Wafer ALD

韫茂科技 韫茂科技
QBT-ADS 双腔高真空双面镀膜PEALD设备 QBT-A
双腔室高真空等离子体ALD MINI 科研型桌式ALD

Sputter

韫茂科技 韫茂科技

单阴极垂直溅射系列

韫茂科技 韫茂科技
PVD100
双腔室高真空磁控溅射系统 QBT-P
双腔室超高真空磁控溅射系统 QBT-P L3
三腔室超高真空磁控溅射系统

多阴极垂直溅射系列

韫茂科技 韫茂科技
QBT-MPV
双腔室多靶枪公转超高真空磁控溅射系统

多阴极共聚焦溅射系列

韫茂科技 韫茂科技
QBT-MPC
双腔室多靶枪共聚焦超高真空磁控溅射系统 QBT-MPC 2000 双腔室多靶枪共聚焦超高真空磁控溅射镀膜系统

定制系列（MP L）

韫茂科技 韫茂科技
QBT-MP·L3 多腔室超高真空磁控溅射系统

Evaporator

韫茂科技 韫茂科技

QBT-J 四腔室双倾角超高真空镀膜系统

QBT-E 双腔室超高真空电子束蒸发镀膜系统

QBT-I 双腔室高速超高真空镀膜系统

PECVD

韫茂科技 韫茂科技

QBT-C200 高真空等离子体增强化学气相沉积系统

Powder ALD

韫茂科技 韫茂科技

GM 研发型粉末ALD

QBT-T 双腔室等离子体硅片及粉末ALD

应用领域

韫茂科技

电子器件

相关产品

韫茂科技

QBT-J 四腔室双倾角超高真空镀膜系统

采用线性级联技术，集成了进样/预处理、离子铣、蒸发以及氧化四个腔室。整套系统全自动运行，操作简单，易于维护，并且采用抓取传送方式，减少了颗粒物的产生。基于QBT-J系列，客户可研发出高质量的超导器件，在诸多领域有广泛的应用前景。
韫茂科技

QBT-E 双腔室超高真空电子束蒸发镀膜系统

标准化的镀膜系统，包含两个腔体：进样腔（预处理）和蒸发腔。超高真空环境可以实现高质量的薄膜沉积：金属、介电材料、光学薄膜、磁性薄膜等。样品操作包括倾斜和旋转，或Z轴移动和旋转，从而能够制备三维结构。

下载中心

如需进一步了解该产品的更多详细信息，请填写下方表格，我们的销售团队将尽快与您联系。

请输入联系人

请输入正确的邮箱

请输入正确的手机号码

请输入您的单位

韫茂科技
PBATCH 批次等离子体ALD
PBATCH-A300 批次等离子体ALD（EFEM可选）
Multi Pbatch 批次等离子体ALD
CBATCH 100s 批次热ALD
CBATCH 300s 批次热ALD
QBT-A 300 CLUSTER 高真空等离子体 ALD 集群系统
MPCVD 金刚石CVD
QBT-ADS 双腔高真空双面镀膜PEALD设备
SICE-Y8 碳化硅外延CVD系统
KG 工业级粉末ALD
SCA 工业级粉末CVD
QBT-J 300 超高真空互联多腔体互联约瑟夫森结制造系统
QBT-P300 Cluster 超高真空磁控溅射集群系统
QBT-A 双腔室高真空等离子体ALD
MINI 科研型桌式ALD
PVD100 双腔室高真空磁控溅射系统
QBT-P 双腔室超高真空磁控溅射系统
QBT-P L3 三腔室超高真空磁控溅射系统
QBT-MPV 双腔室多靶枪公转超高真空磁控溅射系统
QBT-MPC 双腔室多靶枪共聚焦超高真空磁控溅射系统
QBT-MPC 2000 双腔室多靶枪共聚焦超高真空磁控溅射镀膜系统
QBT-MP·L3 多腔室超高真空磁控溅射系统
QBT-MPL4 四腔室多靶枪共聚焦超高真空磁控溅射系统
QBT-J 四腔室双倾角超高真空镀膜系统
QBT-J compact 紧凑型双腔室双倾角超高真空镀膜系统
QBT-E 双腔室超高真空电子束蒸发镀膜系统
QBT-I 双腔室高速超高真空镀膜系统
GM 研发型粉末ALD
QBT-C200 高真空等离子体增强化学气相沉积系统
QBT-T 双腔室等离子体硅片及粉末ALD

请选择产品

韫茂科技

请输入验证码

请填写所有标有 * 的字段。 根据我们的数据处理政策，您所提交的信息仅供内部业务使用，未经许可不会共享或传播给第三方。

韫茂科技立即获取
提交成功
韫茂科技