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MPCVD 金刚石CVD

韫茂科技产品概况

可实现高质量金刚石单晶、多晶薄膜生长,用于核心的第四代宽禁带半导体器件制造。

韫茂科技技术优势

实现全自动、自动化生产

创新的设计带来产品良率大幅提升

高均匀性、偏压设计,提高金刚石薄膜质量

工业标准安全互锁、报警、EMO

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产品分类

应用领域

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热沉芯片

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第四代高功率半导体

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珠宝制造

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PBATCH 批次等离子体ALD
PBATCH-A300 批次等离子体ALD(EFEM可选)
Multi PBATCH 批次等离子体ALD(EFEM可选)
CBATCH 100s 批次热ALD
CBATCH 300s 批次热ALD
QBT-A 300 CLUSTER 高真空等离子体 ALD 集群系统
MPCVD 金刚石CVD
SICE-Y8 碳化硅外延CVD系统
KG 工业级粉末ALD
SCA 工业级粉末CVD
QBT-J 300 超高真空互联多腔体互联约瑟夫森结制造系统
QBT-P300 Cluster 超高真空磁控溅射集群系统
QBT-A 双腔室高真空等离子体ALD
MINI 科研型桌式ALD
QBT-ADS 双腔高真空双面镀膜PEALD设备
PVD100 双腔室高真空磁控溅射系统
QBT-P 双腔室超高真空磁控溅射系统
QBT-P L3 三腔室超高真空磁控溅射系统
QBT-MPV 双腔室多靶枪公转超高真空磁控溅射系统
QBT-MPC 双腔室多靶枪共聚焦超高真空磁控溅射系统
QBT-MPC 2000 双腔室多靶枪共聚焦超高真空磁控溅射镀膜系统
QBT-MPL3 多腔室超高真空磁控溅射系统
QBT-MPL4 四腔室多靶枪共聚焦超高真空磁控溅射系统
QBT-J 四腔室双倾角超高真空镀膜系统
QBT-J compact 紧凑型双腔室双倾角超高真空镀膜系统
QBT-E 双腔室超高真空电子束蒸发镀膜系统
QBT-I 双腔室高速超高真空镀膜系统
QBT-I 双腔室高速热蒸发镀铟系统
GM 研发型粉末ALD
QBT-C200 高真空等离子体增强化学气相沉积系统
QBT-T 双腔室等离子体硅片及粉末ALD

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