- PBATCH-350S 批次等离子体ALD
- PBATCH-A300 批次等离子体ALD(EFEM)
- Multi PBATCH 批次等离子体ALD(EFEM可选)
- CBATCH 100X 批次热ALD(单腔)
- CBATCH 300X 批次热ALD(多腔)
- QBT-A 300 CLUSTER 8/12英寸 ALD 集群系统
- MPCVD 金刚石微波等离子体CVD
- SICE-Y8 工业型碳化硅外延CVD
- KG 工业型粉末ALD
- SCA 工业型硅碳负极流化床CVD
- QBT-J 300 Cluster 8/12英寸双倾角集群系统
- QBT-P300 Cluster 8/12英寸磁控溅射集群系统
- QBT-A 单面高真空等离子体ALD
- QBT-ADS 双面高真空等离子体ALD设备
- TEM 桌面式ALD
- PVD100 双腔室高真空磁控溅射系统
- QBT-P 双腔室超高真空磁控溅射系统
- QBT-PL3 三腔室超高真空磁控溅射系统
- QBT-MPV 双腔室多靶枪公转超高真空磁控溅射系统
- QBT-MPC 2000 双腔室多靶枪共聚焦超高真空磁控溅射镀膜系统
- QBT-MPC 双腔室多靶枪共聚焦超高真空磁控溅射系统
- QBT-OAS 离轴磁控溅射系统
- QBT-IBS 超高真空离子束溅射系统
- QBT-MPL3 三腔室多靶枪共聚焦超高真空磁控溅射系统
- QBT-MPL4 四腔室多靶枪共聚焦超高真空磁控溅射系统
- QBT-J 四腔室双倾角超高真空镀膜系统
- QBT-J Compact 紧凑型双腔室双倾角超高真空镀膜系统
- QBT-E 双腔室超高真空电子束蒸发镀膜系统
- QBT-I 双腔室高速铟蒸发超高真空镀膜系统
- QBT-I 双腔室高速热蒸发镀铟系统
- QBT-C200 等离子体增强PECVD
- GM 研发型粉末ALD
- QBT-T 双腔室等离子体硅片及粉末ALD
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