新闻
NEWS
CIOE2026 | 韫茂与您相约中国光博会
2026-09-02
韫茂科技
41
1
企业与展会介绍
北京韫茂量子科技股份有限公司作为国家级专精特新“小巨人”企业，始终专注于原子级前沿工艺的创新研发与产业化应用。其ALD、PVD等核心设备在光学领域实现了多项突破性应用，可精准制备高透光率、低缺陷的光学薄膜，有效填补了国产高端光学薄膜设备的空白。
在即将到来的2026年中国国际光电博览会（CIOE）上，韫茂将展出的前沿技术与本届光博会“精密光学”、“摄像头技术及应用”、“新型显示”、“AR & VR”、“光电子创新”等主题高度契合。韫茂将进一步推动国产化高端光学装备在先进光显、光学半导体等领域的规模化应用。
2
展位指引
7号馆7C60
3
参展产品
PRODUCT
批次等离子体ALD
应用于先进光学薄膜、光学器件等领域
● 可沉积可见光范围内反射率R<0.05%的光学薄膜
● 可在整个镜片的外表面及3D 微纳结构上进行保形沉积
● 在同一工艺腔室内实现等离子体清洗，及各类不同折射率薄膜的任意组合交替沉积
● 在玻璃、陶瓷、金属等材质的基底沉积多种类型的ALD薄膜
● 全自动、多片、大批量生产，产能业界领先
● 可兼容12英寸和8英寸晶圆
● 可同时兼容热式ALD及等离子体增强ALD工艺
批次热ALD（多腔）
应用于光学薄膜、Mini/Micro OLED/LED、激光器件等领域
● 全自动、多片、连续化生产，现市场上最大产能的热ALD，大幅降低COO
● 实现高深宽比结构的高质量热ALD镀膜，薄膜无针孔，质量高
● 3D镀膜实现原子级别精确控制，可配套高度精度全自动上下料
单面等离子体ALD
可实现氮化物薄膜的极低氧含量，应用于微、纳光电子器件、高品质光学和光电子薄膜的研发与制造
● 搭载全自动传片系统，实现样品传输全程无人工干预
● 超低射频电路损耗、高深宽比TSV填充、超低氧含量（<0.5%）
● 主要应用于低氧含量氮化物薄膜沉积
往期推荐
>
返回列表
新闻
扫码关注我们
关注韫茂微信公众号了解最新动态
