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MINI 科研型桌式ALD

韫茂科技产品概况

MINI是一款尺寸超小、操作简单、功能强大的桌面式ALD系统,它可以在4寸晶圆和微纳米粉体上实现均匀可控的原子层沉积,是先进能源材料、新型纳米材料研究与应用的最佳研发工具。

韫茂科技技术优势

外形尺寸(L x W x H):550 x 470 x 470 (mm)

重量:70kg

电源:220VAC 50HZ 额定功率:1.5kW/7A,峰值功率:2.2kW/10A

样品尺寸:最大支持6英寸晶圆,兼容碎片;样品高度≤3mm

极限真空:≤50 mTorr

工艺温度:室温至360℃

前驱体温度:最高温度180℃

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产品视频

应用领域

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能源材料

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纳米材料

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半导体

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钙钛矿

FAQ

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MINI有什么亮点和特色?

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集成化程度高,仅有烤箱大小,小巧紧凑。工艺丰富,可以制备HfO2,ZnO,Al203,TiO2等

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MINI具体可以应用于哪些领域?

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半导体领域:High-K电解质、超级电容器、二极管等;纳米催化剂领域:光催化、电化学催化;钙钛矿太阳能电池

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PBATCH 批次等离子体ALD
CBATCH 100s 批次热ALD
CBATCH 300s 批次热ALD
MPCVD 金刚石CVD
SICE-Y8 碳化硅外延CVD系统
KG 工业级粉末ALD
SCA 工业级粉末CVD
QBT-A 双腔室高真空等离子体ALD
MINI 科研型桌式ALD
PVD100 双腔室高真空磁控溅射系统
QBT-P 双腔室超高真空磁控溅射系统
QBT-P L3 三腔室超高真空磁控溅射系统
QBT-MPV 双腔室多靶枪公转超高真空磁控溅射系统
QBT-MPC 双腔室多靶枪共聚焦超高真空磁控溅射系统
QBT-MP·L3 多腔室超高真空磁控溅射系统
QBT-J 四腔室双倾角超高真空镀膜系统
QBT-E 双腔室超高真空电子束蒸发镀膜系统
QBT-I 双腔室高速镀膜系统
GM 研发型粉末ALD
QBT-T 双腔室等离子体硅片及粉末ALD

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