GM 研发型粉末ALD
产品概况
GM系列自动粉末原子层沉积设备可以在微纳米粉体上实现均匀可控的原子层沉积或分子层沉积生长。该系统具有专利粉末样品桶、动态粉末流化机构、全自动温度控制、ALD前驱体源钢瓶、自动温度控制阀、工业级安全控制等设计选项，是先进能源材料、催化剂材料、新型纳米材料研究与应用的最佳研发工具。
技术优势
良好的均匀性与批次稳定性＜3%
前驱体最大可包括2组反应气体，5组液态或固态反应前驱体
可实现高达100ml/1000ml粉末原子层沉积包覆
包覆材料品质优异，材料成分可实现原子层级别单相或多相设计
产品视频
应用领域
FAQ
韫茂科技的粉末ALD包括哪些产品
韫茂粉末ALD设备包括工业型及科研型两大分类，KG属于工业型设备，主要用于工厂量产，系列产品为KG10、KG20、KG40、KG100
用ALD包覆与传统的溶液法等相比有什么优势
ALD 通过原子级精准控制、强界面结合、温和工艺和复杂结构适应性，解决了传统溶液法和固相法在包覆过程中的均匀性差、厚度不可控、基底损伤等核心问题
GM主要能沉积哪些薄膜
氧化物：如Al2O3、ZnO2、HfO2、TiO2、SiO2、SnO2等；磷酸盐、含锂化合物：TiPO4、AlPO4、LiNbO3、LixTiyOz等；金属：如 Cu、Pt、W 薄膜
GM系列的粉末处理量最大是多少
GM100和GM1000处理量分别为100g及1000g
GM的应用领域主要有哪些
锂电领域：用于提升电池性能，改善电极材料性能；催化领域：制备高效催化剂，优化催化剂性能；金属粉末处理领域：改善粉末流动性，提高防潮 / 抗氧化性，改善烧结界面；新材料开发领域：纳米材料表面修饰，制备新型薄膜材料；制药领域：改善粉末性能，实现药剂缓释
