工业型设备
研发型设备
ALD
Plasma Batch ALD
PBATCH-350S 批次等离子体ALD
PBATCH-A300 批次等离子体ALD（EFEM）
Multi PBATCH 批次等离子体ALD（EFEM可选）
Thermal Batch ALD
CBATCH 100X 批次热ALD（单腔）
CBATCH 300X 批次热ALD（多腔）
12 inch ALD
QBT-A 300 CLUSTER 8/12英寸 ALD 集群系统
CVD
MPCVD 金刚石微波等离子体CVD
Epitaxy
SICE-Y8 工业型碳化硅外延CVD
Powder ALD/CVD
KG 工业型粉末ALD
SCA 工业型硅碳负极流化床CVD
PVD
QBT-J 300 Cluster 8/12英寸双倾角集群系统
QBT-P300 Cluster 8/12英寸磁控溅射集群系统
Single Wafer ALD
QBT-A 单面高真空等离子体ALD
QBT-ADS 双面高真空等离子体ALD设备
TEM 桌面式ALD
Sputter
单阴极垂直溅射系列
PVD100 双腔室高真空磁控溅射系统
QBT-P 双腔室超高真空磁控溅射系统
QBT-PL3 三腔室超高真空磁控溅射系统
多阴极垂直溅射系列
QBT-MPV 双腔室多靶枪公转超高真空磁控溅射系统
多阴极共聚焦溅射系列
QBT-MPC 2000 双腔室多靶枪共聚焦超高真空磁控溅射镀膜系统
QBT-MPC 双腔室多靶枪共聚焦超高真空磁控溅射系统
离子束溅射系列
QBT-IBS 超高真空离子束溅射系统
离轴溅射系列
QBT-OAS 离轴磁控溅射系统
定制系列（MP L）
QBT-MPL3 三腔室多靶枪共聚焦超高真空磁控溅射系统
QBT-MPL4 四腔室多靶枪共聚焦超高真空磁控溅射系统
Evaporator
QBT-J 四腔室双倾角超高真空镀膜系统
QBT-J Compact 紧凑型双腔室双倾角超高真空镀膜系统
QBT-E 双腔室超高真空电子束蒸发镀膜系统
QBT-I 双腔室高速铟蒸发超高真空镀膜系统
QBT-I 双腔室高速热蒸发镀铟系统
PECVD
QBT-C200 等离子体增强PECVD
Powder ALD
GM 研发型粉末ALD
QBT-T 双腔室等离子体硅片及粉末ALD
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